发明名称 化合物半导体发光器件的外延衬底及制造方法和发光器件
摘要 为了提高发光效率而不致降低发光层结构的保护性能,设置了一种与发光层结构相接触的由第一到第三层组成的3-层p-型层结构。第一层是一层n-型AlGaN层,它用作保护层,第三层是一层GaN∶Mg层,它用作接触层,形成在这两层之间的第二层是一层作为中间层的AlGaN∶Mg层,设置中间层,即使在n-型AlGaN层做得很薄的情况下,也能使InGAN层在其上生长延层时得到彻底的防热保护,以此可以使GaN∶Mg层设置得接近发光层结构,以增强向发光层结构中注入空穴的效率,从而提高发光效率。
申请公布号 CN1484324A 申请公布日期 2004.03.24
申请号 CN03127475.7 申请日期 2003.07.08
申请人 住友化学工业株式会社 发明人 山中贞则;土田良彦;小野善伸;家近泰
分类号 H01L33/00;H01S5/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 吴立明;梁永
主权项 1.一种用于化合物半导体发光器件的外延衬底,包括:包括一pn结的一双异质发光层结构;和与发光层结构相接触形成的一p-型层侧层结构,从与发光层结构相接触的膜层起始依次包括用InxAlyGazN(x+y+z=1,0≤x≤1,0≤y≤1,0≤z≤1)表示的一n-型第一层,用InuAlvGawN(u+v+w=1,0≤u≤1,0≤v≤1,0≤w≤1)表示的一p-型第二层,和用InpAlqGarN(p+q+t=1,0≤p≤1,0≤q≤1,0≤r≤1)表示的一p-型第三层,三层膜各自与其邻层接触形成。
地址 日本大阪府