| 发明名称 |
Method and feedstock for making photomask material |
| 摘要 |
A method for manufacturing a photomask material includes delivering a powder containing silicon dioxide into a plasma to produce silica particles and depositing the silica particles on a deposition surface to form glass.
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| 申请公布号 |
US2004050098(A1) |
申请公布日期 |
2004.03.18 |
| 申请号 |
US20030644456 |
申请日期 |
2003.08.20 |
| 申请人 |
BALL LAURA J.;RAKOTOARISON SYLVAIN |
发明人 |
BALL LAURA J.;RAKOTOARISON SYLVAIN |
| 分类号 |
G03F1/14;C03B19/01;C03B19/14;C03B20/00;C23C4/10;H01L21/027;(IPC1-7):C03B37/018;C03B37/075 |
主分类号 |
G03F1/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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