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Um eine Vorrichtung bzw. ein Verfahren zum Behandeln von Substraten vorzusehen, die bzw. das eine gute und gleichmäßige Behandlung bei hohem Durchsatz ermöglicht, ist eine Vorrichtung zum gleichzeitigen Behandeln von einzelnen Substraten vorgesehen, die eine Vielzahl von übereinander angeordneten, im Wesentlichen gleichen Prozesseinheiten mit jeweils einer Substrataufnahme zur Aufnahme eines einzelnen Substrats und eine Handhabungsvorrichtung mit einer der Anzahl der Prozesseinheiten entsprechenden Anzahl von Substrataufnahmen aufweist zum gleichzeitigen Be- und Entladen einer Vielzahl von Substraten in die bzw. aus den Prozesseinheiten. Um ferner eine Vorrichtung zum Transport von Substraten vorzusehen, die das gleichzeitige Beladen einer Vielzahl von Prozesseinheiten ermöglicht, ist eine Vorrichtung vorgesehen, die eine der Anzahl der zu transportierenden Substrate entsprechenden Vielzahl von parallel zueinander angeordneten Substrataufnahmen und einer Vorrichtung zum Verändern eines Abstandes zwischen den Substrataufnahmen aufweist, wobei der Abstand im Wesentlichen zwischen einem ersten Abstand, der dem Abstand der Substrate in einer ersten Einheit entspricht, und einem zweiten Abstand, der dem Abstand zwischen zweiten Einheiten entspricht, veränderbar ist.
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