发明名称 | 利用相移孔隙的投影式光刻 | ||
摘要 | 本发明提供了一种用于投影式微影制程的平板50,其具有第一不透明区域54,位于这个平板50的,及第二不透明区域56,形成在这个平板50的外缘52。这个第一不透明区域及这个第二不透明区域会定义一个光传导环状区域58。这个环状区域58乃是包括第一光传导区域60、62,藉以对穿透光线施予一第一相移,以及第二光传导区域64、66,藉以对穿透光线施予一第二相移。 | ||
申请公布号 | CN1483158A | 申请公布日期 | 2004.03.17 |
申请号 | CN01821186.0 | 申请日期 | 2001.11.29 |
申请人 | 因芬尼昂技术北美公司 | 发明人 | P·施罗伊德;T·莫诺 |
分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 梁永 |
主权项 | 1.一种投影式微影制程的平板,其包括:一第一不透明区域,位于该平板之中央;以及一第二不透明区域,形成在该平板之一外缘,该第一及该第二不透明区域系在两者间定义一环状区域,该环状区域系光传导的、且具有一第一光传导区域,其系对穿透光线施予一相移,及一第二光传导区域,其系对穿透光线施予一第二相移。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |