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发明名称 半导体制造装置用处理容器的内壁保护体
摘要
申请公布号 CN3357390D 申请公布日期 2004.03.17
申请号 CN03307598.0 申请日期 2003.04.11
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 釜石贵之;岛村明典;森嵨雅人
分类号 14-99 主分类号 14-99
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项
地址 日本国东京都
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