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Numerisches Optimierverfahren zum Bestimmen der optischen Daten eines Objektivs (1), insbesondere eines Projektionsobjektivs für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, wobei mit dem Optimierverfahren eine Optimierfunktion minimiert wird. Mit dem Optimierverfahren wird der störende Einfluss der intrinsischen Doppelbrechung von Linsen (L101-L130) aus Fluorid-Kristall-Metall mit kubischer Kristallstruktur reduziert, indem in der Optimierfunktion mindestens ein Doppelbrechungs-Bildfehler berücksichtigt wird, welcher, basierend auf der Durchrechnung eines Strahls (7), durch die Fluorid-Kristall-Linsen bestimmt wird und welcher, soweit er von Parametern des Strahls abhängt, nur von geometrischen Parametern des Strahls abhängt. Mit dem numerischen Optimierverfahren werden Objekte (1) hergestellt, bei welchen sowohl eine optische Verzögerung als auch eine optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist. Die Objektive weisen dabei mehrere homogene Gruppen (HG1-HG7) auf, in welchen jeweils die optische Verzögerungs-Asymmetrie korrigiert ist.
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