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发明名称 Verfahren zum Ätzen einer Siliciumdioxidschicht mit einem Fluorkohlenwasserstoff-Plasma
摘要
申请公布号 DE69821458(D1) 申请公布日期 2004.03.11
申请号 DE19986021458 申请日期 1998.11.19
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK 发明人 ARMACOST, MICHAEL D.;CONLEY, WILLARD E.;COTLER-WAGNER, TINA J.;DELLAGUARDIA, RONALD A.;DOBUZINSKY, DAVID M.;PASSOW, MICHAEL L.;WILLE, WILLIAM C.
分类号 G03F7/40;G03F7/033;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/321;H01L21/768 主分类号 G03F7/40
代理机构 代理人
主权项
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