| 发明名称 |
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003256081(A1) |
申请公布日期 |
2004.03.11 |
| 申请号 |
AU20030256081 |
申请日期 |
2003.08.22 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
YASUHIRO OMURA;HIRONORI IKEZAWA;DAVID, M. WILLIAMSON |
| 分类号 |
G02B13/14;G02B13/18;G02B13/24;G02B17/08;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G02B13/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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