| 发明名称 |
Lithographic projection apparatus with substrate holder |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0947884(B1) |
申请公布日期 |
2004.03.10 |
| 申请号 |
EP19990302392 |
申请日期 |
1999.03.29 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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