发明名称 | 用于调整磁共振成像磁体组件的方法和系统 | ||
摘要 | 本发明公开了用于调整磁共振成像(MRI)磁场发生组件(12)的方法和系统,其中多个垫片(18)相对于磁场发生组件的表面(16)固定,来至少部分地校正由磁场发生组件产生的磁场中的不均匀性。一方面,垫片沿多个同心几何形状(52)布置,每个同心几何形状至少具有五个边。可选择地,垫片沿多个行和列布置,其中行与列垂直。另一方面,至少一个垫片是磁性材料平板,该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)。底面是平板相对于磁场发生组件最接近的部分,顶面是平板相对于磁场发生组件最远的部分,并且工作面与由磁体发生组件产生的磁场的方向对齐。 | ||
申请公布号 | CN1480742A | 申请公布日期 | 2004.03.10 |
申请号 | CN03152208.4 | 申请日期 | 2003.07.29 |
申请人 | GE医疗系统环球技术有限公司 | 发明人 | J·黄;B·-X·徐 |
分类号 | G01R33/387;A61B5/055 | 主分类号 | G01R33/387 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京;郑建晖 |
主权项 | 1.一种用于磁共振成像磁场发生组件(12)的磁场调整系统,该磁场调整系统包含:多个相对于磁场发生组件(12)的表面(16)固定的垫片(18),该多个垫片(18)至少部分地校正由磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性,该多个垫片(18)沿多个同心几何形状(52)布置,多个同心几何形状(52)中的每一个同心几何形状至少有五个边。 | ||
地址 | 美国威斯康星州 |