发明名称 |
基于传输单模光纤实现不同声光滤波器性能的光纤制备方法 |
摘要 |
本发明属于光电子技术领域,采用商售传输用单模光纤,对其外径进行刻蚀;具体包括:根据器件性能要求决定其外径大小,根据所采取的刻蚀方法和实际工艺条件事先标定刻蚀速率,然后根据要求的外径大小和刻蚀速率通过控制时间来局部地减小该光纤的外径,以实现等效地改变声光作用区的光纤折射率分布。本方法工艺简单,比较容易控制,容易实现较长的均匀声光作用区,而且光纤的芯区没有破坏,既可以实现器件不同的性能又可以保持单模光纤损耗低的优点;除此之外光纤外径可以随意设计,还可以采用不同的单模光纤,带来了很大的器件性能的设计余地。 |
申请公布号 |
CN1141606C |
申请公布日期 |
2004.03.10 |
申请号 |
CN01136672.9 |
申请日期 |
2001.10.26 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
刘小明;金弢;厉群;赵建辉;彭江得 |
分类号 |
G02B6/124 |
主分类号 |
G02B6/124 |
代理机构 |
北京清亦华专利事务所 |
代理人 |
廖元秋 |
主权项 |
1、一种基于传输单模光纤实现不同声光滤波器性能的光纤制备方法,其特征在于,采用商售传输用单模光纤,对其外径进行刻蚀;具体包括:根据器件的耦合转换效率、调谐范围、滤波器带宽及调谐特性各性能要求决定其外径大小为100μm-18μm范围,根据所采取的常规的氢氟酸刻蚀或等离子体刻蚀方法,针对实际采用的氢氟酸的浓度或等离子体反应室的气体浓度、放电强度及反应温度各工艺条件事先标定刻蚀速率;然后根据所说的外径大小的范围和已知的刻蚀速率,通过控制刻蚀时间来局部地减小该光纤的外径,以实现改变声光作用区的光纤折射率分布。 |
地址 |
100084北京市海淀区清华园 |