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发明名称
Verfahren zum Ätzen von im wesentlichen einkristallinen Halbleiterkörpern
摘要
申请公布号
CH401633(A)
申请公布日期
1965.10.31
申请号
CH19610012623
申请日期
1961.10.31
申请人
SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT
发明人
DR. EMEIS,REIMER,DIPL.-PHYS.
分类号
C23F1/40;C23F3/04;(IPC1-7):C23F1/00
主分类号
C23F1/40
代理机构
代理人
主权项
地址
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