| 发明名称 |
Method for fabricating a semiconductor structure including a metal oxide interface with silicon |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1069605(A3) |
申请公布日期 |
2004.03.10 |
| 申请号 |
EP20000115126 |
申请日期 |
2000.07.12 |
| 申请人 |
MOTOROLA INC. |
发明人 |
DROOPAD, RAVINDRANATH;YU, ZHIYI;RAMDANI, JAMAL |
| 分类号 |
C30B29/32;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316;C30B23/02;C30B25/18 |
主分类号 |
C30B29/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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