发明名称 |
制造设备 |
摘要 |
本发明提供一种蒸发设备和蒸发方法,该蒸发设备是一种膜形成装置,并提供EL层膜厚的优异均匀性、优异生产率和EL材料的提高的利用效率。本发明的特征在于在蒸发期间其中设置封闭蒸发材料的容器的蒸发源固定器可以一定间距相对于衬底移动。此外,膜厚监视器与蒸发源固定器结合在一起,用于移动。此外,通过根据由膜厚监视器检测的值调整蒸发源固定器的移动速度,可以使膜厚均匀。 |
申请公布号 |
CN1480984A |
申请公布日期 |
2004.03.10 |
申请号 |
CN03152528.8 |
申请日期 |
2003.08.01 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;村上雅一 |
分类号 |
H01L21/00;H01L21/203;H05B33/10;C23C14/24 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
吴立明;梁永 |
主权项 |
1.一种制造设备,包括:装载室;耦合到装载室的传送室;耦合到传送室的多个膜形成室;耦合到传送室的处理室;其中多个膜形成室的每个耦合到真空排气处理室,用于使膜形成室内部形成真空;其中多个膜形成室的每个包括:用于进行掩模和衬底的位置对准的对准装置;衬底固定装置;蒸发源固定器;和用于移动蒸发源固定器的装置;其中蒸发源固定器包括:密封蒸发材料的容器;用于加热该容器的装置;和形成在该容器上的挡板;其中每个处理室耦合到真空排气处理室,用于提供真空状态;其中多个片式加热器设置在处理室中,以便叠加和打开其间的缝隙;和其中处理室可以在多个衬底上进行真空加热。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |