METHOD FOR THE PRODUCTION OF THIN METAL-CONTAINING LAYERS HAVING LOW ELECTRICAL RESISTANCE

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung dünner metallhaltiger Schichten (5C) mit geringem elektrischen Widerstand, wobei zunächst eine metallhaltige Ausgangsschicht (5A) mit einer ersten Korngrösse auf einem Trägermaterial (2) ausgebildet wird. Nachfolgend wird ein lokal begrenzter Wärmebereich (W) in der metallhaltigen Ausgangsschicht (5A) derart erzeugt und bewegt, dass eine Rekristallisation der metallhaltigen Ausgangsschicht (5A) zum Erzeugen der metallhaltigen Schicht (5C) mit einer zur ersten Korngrösse vergrösserten zweiten Korngrösse durchgeführt wird. Auf diese Weise erhält man eine metallhaltige Schicht mit verbesserten elektrischen Eigenschaften.