发明名称 |
Lithographic apparatus and device manufacturing method |
摘要 |
A lithographic apparatus uses the control signal from a computer to drive two spatial light modulators to pattern two separate projection beams for projection onto two substrates. |
申请公布号 |
US2004041104(A1) |
申请公布日期 |
2004.03.04 |
申请号 |
US20030457786 |
申请日期 |
2003.06.10 |
申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
LIEBREGTS PAULUS MARTINUS MARIA;BLEEKER ARNO JAN;LOOPSTRA ERIK ROELOF;BORGGREVE HARRY |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G21K5/10;H01J37/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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