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发明名称
Röntgenstrahlenquelle mittels laser erzeugtem Plasma, und Vorrichtung für Halbleiterlithographie und Verfahren unter Verwendung derselben
摘要
申请公布号
DE69813065(T2)
申请公布日期
2004.03.04
申请号
DE19986013065T
申请日期
1998.01.21
申请人
HITACHI, LTD.
发明人
MATSUI, TETSUYA;YAMADA, KIMIO;NISHI, MASATSUGU;UENO, MANABU;TOOMA, MASAHIRO
分类号
G21K5/02;G03F7/20;H01J35/00;H01L21/027;H05G2/00;H05H1/24;(IPC1-7):H05G2/00
主分类号
G21K5/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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