发明名称 多反应床的下流型反应器
摘要 本发明涉及一个多反应床的下流型反应器,包括垂直地隔开的反应床(2a,2b),优选地为催化剂颗粒床,并且在相邻的反应床之间,具有用于混合液体的混合装置(5),该混合装置(5)包括:(i)一个基本上为水平的收集板(6),(ii)在收集板(6)下面的用于混合液体的漩涡室(7),该漩涡室有一个直接与收集板(6)的上面(9)流体连通的上端口部份,和一个在它下端的出口(10),(iii)在漩涡室(7)下面的一个基本上为水平的分配板(13),该分配板(13)为下流的液体和气体提供了多个开口或下导管(14),在该反应器内,每个反应床都安装在具有中心孔(25)的支撑板(3)上,并且该反应器还包括端部开口的管道(23)延伸穿过每个中心孔(25),以致形成一个垂直的滑槽(24),从混合装置(5)上面的反应床(2a)通到混合装置(5)下面的反应床(2b),其中混合装置(5)的漩涡室(7)位于开口管道(23)的周围。本发明进一步涉及在烃类处理时这种反应器的使用。
申请公布号 CN1479776A 申请公布日期 2004.03.03
申请号 CN01820325.6 申请日期 2001.12.11
申请人 国际壳牌研究有限公司 发明人 于尔延·W·范德梅尔;马里安·C·宗内维勒
分类号 C10G49/00 主分类号 C10G49/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 郑修哲
主权项 1.一个多反应床的下流型反应器,包括垂直地隔开的反应床,优选地是催化剂颗粒床,并且在相邻的反应床之间,具有用于混合液体的混合装置,该混合装置包括:(i)一个基本上为水平的收集板,(ii)在收集板下面的用于混合液体的漩涡室,该漩涡室有一个直接与收集板的上面流体连通的上端口部份,和一个在它下端的出口,(iii)在漩涡室下面的一个基本上为水平的分配板,该分配板为下流的液体和气体提供了多个开口或下导管,在该反应器内,每个反应床都安装在具有中心孔的支撑板上,并且该反应器还包括端部开口的管道延伸穿过每个中心孔,以致形成一个垂直的滑槽,从混合装置上面的反应床通到混合装置下面的反应床,其中混合装置的漩涡室位于开口管道的周围。
地址 荷兰海牙