发明名称 半导体积体电路装置
摘要 本发明系提供一种半导体积体电路装置,其系藉由将层间绝缘膜之第1配线层之配线间空间予以紧密化,而增加层间绝缘膜之第1配线层之总量,并减低造成弯曲的原因之低硬度层间绝缘膜之总量。其结果,例如在设置于层间绝缘膜上之保护膜,系由于并不产生会导致该层间绝缘膜弯曲的应力(荷重等),故在其保护膜不致于产生龟裂等之现象。因此,能防止起因于上述的保护膜之龟裂等之第2配线层之断线等之不适合之情形,并可构成可靠性较高之半导体积体电路装置。
申请公布号 TW200403020 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW092109086 申请日期 2003.04.18
申请人 夏普股份有限公司 发明人 铃木岳洋
分类号 H01L 主分类号 H01L
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本