发明名称 半导体晶圆之保护构造、半导体晶圆之保护方法、用于保护晶圆之积层保护片及半导体晶圆之加工方法
摘要 本发明之半导体晶圆之保护构造,系在半导体晶圆之电路面上,层叠其直径大于该半导体晶圆外径之保护片而形成。根据本发明,系提供一种可将晶圆研削至极薄,且在搬运晶圆时,可防止晶圆在研削中乃至搬运中产生破损之半导体晶圆的保护构造、半导体晶圆的保护方法、以及用于保护晶圆的积层保护片。此外,本发明亦提供一种半导体晶圆的加工方法,可在进行黏接片之贴附、切除时降低晶圆的破损率。
申请公布号 TW200403722 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW092123534 申请日期 2003.08.27
申请人 琳得科股份有限公司 发明人 妹尾秀男;永元公市;堀米克彦;大桥仁
分类号 H01L21/08 主分类号 H01L21/08
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本