发明名称 挡土墙
摘要 一种挡土墙,包括由多数个第一座体、与多数个第二座体,呈斜向交错叠置而构成。其中该第一座体,是由两侧对称的锥状壁、及前后端平行的平面壁构成一中空多边柱状,该两锥状壁,包括于壁面分别设有两通孔,锥端的上端面设有横槽,锥状壁底端面后方亦设有横槽;该第二座体,为第一座体之半体状结构,包括一锥状壁、对应端的平面壁、及前后端平行的平面壁,该锥状壁壁面设有两通孔,锥端的上端面设有横槽,锥状壁底端面后方亦设有横槽。当组合成挡土墙时,多数第二座体系构成挡土墙末端平面,多数第一座体系由上部座体底端面嵌合在下部座体的横槽内,以交错位置依序向上叠置,而能方便又快速的组构成一斜向挡土墙。
申请公布号 TW578810 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW092208392 申请日期 2003.05.08
申请人 苏舜銂 发明人 苏舜銂
分类号 E02D29/02 主分类号 E02D29/02
代理机构 代理人 陈志浩 台北市中正区罗斯福路三段一二六号四楼之一
主权项 1.一种挡土墙,包括:多数个第一座体,每一第一座体是由两侧对称的锥状壁、及前后端平行的平面壁,构成一中空多边柱状,该两锥状壁包括在壁面分别设有两通孔,锥端的上端面设有横槽,锥状壁底端面后方亦设有横槽;多数个第二座体,为第一座体之半体状结构,包括一锥状壁、对应端的平面壁、及前后端平行的平面壁,构成一中空多边柱状,该锥状壁壁面设有两通孔,在锥端的上端面设有横槽,锥状壁底端面后方亦设有横槽;多数第一座体,系由第一座体之锥状壁锥端,接触相邻第一座体之锥状壁锥端,以同方向排列,构成挡土墙最底层,第二座体系位于该底层排列的第一座体两外侧末端,构成挡土墙两侧平面,由上部第一座体前方平面壁之底端面,嵌合在下部第一座体锥状壁上端面的横槽内,同时由上部第一座体底端面后方之横槽,嵌入下部第一座体之后方平面壁端面,以交错位置依序叠置,直至组构成所需之挡土墙高度。2.依据申请专利范围第1项中所述之挡土墙,其中,在上述挡土墙最底层,可预先以定位凸条,横向嵌设在排成列状每一第一座体底端面之横槽内。图式简单说明:第一图为构成本创作挡土墙之第一座体与第二座体立体图。第二图表示由一第一座体与多数第二座体构成本创作挡土墙之最底层示意图。第三图表示交错组构形成之挡土墙第二层示意图。第四图为第三图之俯视图。第五图表示交错组构形成之挡土墙第三层示意图。第六图为第五图之俯视图。
地址 南投县竹山镇民生巷五十五号