| 主权项 |
1.一种喷墨头制造方法,包括:提供一基层;藉由半导制程形成一图样层于该基层上,其中该图样层包含:一辅助图样构成于该基层相对应末端与具有保留一空间区域作为一导流通道;一基础图样构成于该基层相对应侧端与具有保留复数个隙缝作为一墨水腔,其中该辅助图样与该基础图样围绕成一中心区域作为一墨水通道,该基础图样包含一加热层与一钝化层,该辅助图样由相同材质制造与该基础图样实质上具相同高度;形成具有该墨水通道之一乾膜光阻层,该导流通道与该复数个墨水孔于该图样层上;以及藉由热压方式黏合一喷孔片于该乾膜光阻层上,其中该喷孔片具有复数个墨水开口覆盖于该墨水腔上。2.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该加热层之材质为TaAl。3.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该第一钝化层之材质为Si3N4或SiC。4.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该第二钝化层之材质为Ta。5.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该喷孔片之材质为镍金属。6.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该辅助图样与基础图样间为不连续形状之间隔排列。7.如申请专利范围第6项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该辅助图样包括第一辅助图样及第二辅助图样,其间系构成不连续形状之间隔排列,并且形成导流通道。8.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该辅助图样系由基础图样相对应交叉凸伸之第一辅助图样及第二辅助图样所构成,其间系构成不连续形状之间隔排列,并且形成导流通道。9.如申请专利范围第1项所述之喷墨头制造方法,其中上述之该基础图样之第一钝化层及第二钝化层与辅助图样系构成连续形状,而基础图样之加热层则与辅助图样构成不连续形状之间隔排列。10.一种喷墨头制造方法,包括:提供一基层;藉由半导制程形成一图样层于该基层上,其中该图样层包含:一辅助图样构成于该基层相对应末端与具有保留一空间区域作为一导流通道;一基础图样构成于该基层相对应侧端与具有保留复数个隙缝作为一墨水腔,其中该辅助图样与该基础图样实质上具相同高度且围绕成一中心区域作为一墨水通道,该辅助图样包含一第一辅助图样与一第二辅助图样,其间系构成不连续形状之间隔排列,并且形成一导流通道;形成具有该墨水通道之一乾膜光阻层;以及黏合一喷孔片于该乾膜光阻层上。图式简单说明:图1为习知喷墨头层状结构之平面俯视图,其中移去喷孔片以清楚显示层状结构。图2为墨水腔部份放大图。图3为墨水腔的剖面视图。图4为图一沿A-A线之剖面图。图5为本发明喷墨头层状结构之平面俯视图,其中移去喷孔片以清楚显示层状结构。图6为图五沿C-C线之剖面图。图7为本发明喷墨头层状结构第二实施例之平面俯视图,其中移去喷孔片以清楚显示层状结构。图8为本发明第二实施例中图七沿E-E线之剖面图。 |
