用作抗光蚀剂之氟化聚合物及微光刻术方法

摘要

本发明系提供一种具有由至少一氟化烯烃衍生之重复单元，及由至少一具有侧链羟基或酯化羟基之多环烯属不饱和单体衍生之重复单元，及选用之其他重复单元（通常由丙烯酸酯衍生）之含氟共聚物。此等聚合物在短波长（如193nm及157nm）下具有高度透明性，且提供良好之电浆蚀刻抗性及黏着性质。本发明亦提供一种光蚀组合物及涂布该组合物之基材。