| 摘要 |
Instalación para dar sombra, que comprende - una hilera de láminas para dar sombra (1a, 1b, 1c, 2a, 2b, 2c), las cuales están dispuestas en cada caso con posibilidad de movimiento de vaivén alrededor de un eje longitudinal (3 a 8) que discurre transversalmente respecto de la dirección de la hilera (R) y que constan de un grupo de láminas directas (1a, 1b, 1c) y un grupo de láminas opuestas (2a, 2b, 2c) dispuestas alternadamente, y - medios de movimiento de vaivén los cuales giran las láminas de cada grupo en el mismo sentido entre sí y en sentido contrario respecto de las del otro grupo, caracterizada porque - los medios de control del movimiento de vaivén están ajustados para controlar los movimientos de vaivén en sentido contrario de los dos grupos de láminas (1a, 1b, 1c; 2a, 2b, 2c) de tal manera, dependiendo de la altura del sol, que dentro de una zona de vaivén correspondiente, que comprende la posición cerrada de la hilera de láminas, las zonas opuestas entre sí de láminas contiguas queden aproximadamente sin sombrear en la posición de las láminas ajustada en cada caso dependiendo de la dirección de incidencia del sol en la proyección hacia la dirección de incidencia de la luz del sol.
|
