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发明名称 METHOD FOR FORMING PLDD STRUCTURE WITH MINIMIZED LATERAL DOPANT DIFFUSION
摘要
申请公布号 SG102033(A1) 申请公布日期 2004.02.27
申请号 SG20020000798 申请日期 2002.02.14
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, LTD 发明人 SUBRAHAMAYAM CHIVUKULA;YELEHANKA RAMACHANDRAMURTHY PRADEEP;MADHUSUDAN MUKHOPDHYAY;PALANIVEL BALASUBRAMANIAM
分类号 H01L21/336;H01L29/78;(IPC1-7):H01L 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
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