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发明名称 EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
摘要
申请公布号 SG101954(A1) 申请公布日期 2004.02.27
申请号 SG20010000500 申请日期 2001.01.31
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 KENJI NISHI
分类号 H01L21/027;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20;G02B27/52 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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