发明名称 |
Strahlführungssystem, Abbildungsverfahren und Elektronenmikroskopiesystem |
摘要 |
Es wird ein Elektronenmikroskopiesystem vorgeschlagen, dessen Objektivlinse (19) ein in einer x-Richtung verlagerbares Feld auf eine feste Strahlachse (17) abbildet. Die Objektivlinse hat eine astigmatische Wirkung, die mit einem Strahlformer (63) auf der festen Achse kompensiert wird. DOLLAR A Ferner werden Linsenkonfigurationen vorgeschlagen, welche selektiv auf den Primärelektronenstrahl oder den Sekundärelektronenstrahl wirken können.
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申请公布号 |
DE10237141(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.26 |
申请号 |
DE20021037141 |
申请日期 |
2002.08.13 |
申请人 |
LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH |
发明人 |
KIENZLE, OLIVER;KNIPPELMEYER, RAINER;UHLEMANN, STEPHAN;HAIDER, MAX;MUELLER, HEIKO |
分类号 |
H01J37/10;H01J37/12;H01J37/145;H01J37/147;H01J37/153;H01J37/244;H01J37/26;H01J37/28;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/147 |
主分类号 |
H01J37/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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