发明名称 |
FIELD EFFECT TRANSISTOR, ASSOCIATED USE, AND ASSOCIATED PRODUCTION METHOD |
摘要 |
<p>Erläutert wird ein vertikaler Feldeffekttransistor mit einer Halbleiterschicht (10),in der entlang einer Vertiefung (72) ein dotierter Kanalbereich angeordnet ist. Ein"vergrabener" Anschlussbereich (18, 54) führt bis zu einer Oberfläche der Halbleiterschicht (10). Ein zweiter Anschlussbereich (16) ist in der Nähe der Öffnung der Vertiefung an der gleichen Oberfläche angeordnet. Vorzugsweise werden auch Isoliervertiefungen (70, 74, 76) zwischen dem Kanalbereich und einer leitenden Zuführung (54) sowie zwischen dem Feldeffekttransistor und einem benachbarten elektrischen Bauelement hergestellt. Der Feldeffekttransistor hat hervorragende elektrische Eigenschaften und ist einfach herzustellen.</p> |
申请公布号 |
WO2004017417(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.26 |
申请号 |
WO2003DE01957 |
申请日期 |
2003.06.12 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG;KAKOSCHKE, RONALD;TEWS, HELMUT |
发明人 |
KAKOSCHKE, RONALD;TEWS, HELMUT |
分类号 |
H01L27/10;H01L21/336;H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/78;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/78 |
主分类号 |
H01L27/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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