摘要 |
Es wird eine Vorrichtung und ein Verfahren bereitgestellt, um wenigstens einen Strahl geladener Teilchen zu beeinflussen. Die Vorrichtung umfaßt zwei zueinander parallel und mit Abstand voneinander angeordnete Reihen von Feldquellelementen 13, welche in Reihenrichtung periodisch mit Abstand d voneinander derart angeordnet sind, daß Symmetrieebenen S existieren, bezüglich welchen die Feldquellelemente 13 symmetrisch angeordnet sind. DOLLAR A Das Feld weist eine in x-Richtung verlagerbare Komponente auf. Zu deren Bereitstellung wird an die Feldquellelemente ein Quellstärkenmuster gemäß der Formel F¶1¶(x)=F¶m¶(x)+F¶c¶(x) angelegt, wobei F¶m¶ eine von der Verlagerung x¶o¶ im wesentlichen unabhängige Komponente ist und F¶c¶ eine von x¶o¶ abhängige Korrekturkomponente ist.
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