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"SUBSTRATO COM UMA SUPERFìCIE ULTRAFóBICA DE DIFUSãO DE LUZ REDUZIDA E UM PROCESSO PARA A PRODUçãO DO MESMO". A invenção refere-se a um substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida, a um processo para a produção do dito substrato e ao uso dele. O substrato com uma superfície ultrafóbica de difusão de luz reduzida tem uma perda de difusão total <243> 7%, de preferência, <243> 3% e, especialmente, <243> 1% e um ângulo de contato em relação à água de <242> 140<198>, de preferência, <242> 150<198>. |
