| 发明名称 |
Scatterometry alignment for imprint lithography |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003261317(A8) |
申请公布日期 |
2004.02.23 |
| 申请号 |
AU20030261317 |
申请日期 |
2003.07.31 |
| 申请人 |
MOLECULAR IMPRINTS, INC. |
发明人 |
IAN MCMACKIN;BYUNG-JIN CHOI;SIDLGATA V. SREENIVASAN;RONALD D. VOISIN;NORMAN E. SCHUMAKER;MICHAEL P.C. WATTS |
| 分类号 |
G01B11/00;G01N21/86;G03F;G03F1/00;G03F7/20 |
主分类号 |
G01B11/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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