| 主权项 |
1.一种晶圆平台,该平台装设在离子布植机内,且包含至少一晶圆垫座组件,用于放置晶圆及使晶圆冷却,该晶圆垫座组件包含:一晶圆支座垫,该晶圆支座垫有用于放置该晶圆的上表面及下表面,该晶圆支座之下表面连接一冷却剂通道,该冷却剂通道具有相对设置的入口区段及出口区段,其中该入口区段之质量与该出口区段之质量相互平衡。2.如申请专利范围第1项之晶圆平台,其中该入口区段之入口末端与该出口区段之出口末端所在位置接近该上表面之中心。3.如申请专利范围第1项之晶圆平台,其中该冷却剂通道设置为蜿蜒形态。4.如申请专利范围第1项之晶圆平台,其中该入口区段与该出口区段设置为对称形态。5.如申请专利范围第1项之晶圆平台,其中该晶圆支座垫之下表面连接一框架,该框架有一外曲面,此外曲面配接于具互补形状的外罩轴承面,其中该晶圆能相对于一轴旋转。6.如申请专利范围第5项之晶圆平台,其中该轴承面另包含一供给通道及一返回通道,其分别流体连通于一供给管线与一返回管线。7.如申请专利范围第6项之晶圆平台,其中该供给管线与该返回管线分别流体连通于该冷却通道之入口与出口。8.如申请专利范围第5项之晶圆平台,其中该框架另包含一弯曲滑道,该弯曲滑道经由一或多个凸轮从动件固定于该外罩。9.如申请专利范围第6项之晶圆平台,其中该框架之外部曲面能密封该轴承面之供给与返回通道。10.如申请专利范围第1项之晶圆平台,其中该至少一晶圆垫座组件上包含多个晶圆垫座组件。11.一种晶圆垫座组件,用于放置晶圆,且装设在离子布植机内,该晶圆垫座组件包含:一晶圆支座垫,该晶圆支座垫具有一上表面及一下表面,该上表面用于放置该晶圆,该下表面连接一框架,该框架有一外曲面,该外曲面配接于具互补形状的外罩轴承面,其中该晶圆能相对于一轴旋转。12.如申请专利范围第11项之晶圆垫座组件,其中该外曲面为凸面。13.如申请专利范围第11项之晶圆垫座组件,其中该框架另包含一弯曲滑道,该弯曲滑道经由一或多个凸轮从动件固定于该外罩。14.如申请专利范围第11项之晶圆垫座组件,其中该晶圆能相对于一轴倾斜约0度至约45度。15.如申请专利范围第11项之晶圆垫座组件,其中该框架另包含彼此相对之滑道,该等弯曲滑道经由复数个凸轮从动件固定于该外罩。16.如申请专利范围第11项之晶圆垫座组件,其另包含一冷却通道,该冷却通道连接该晶圆支座垫之下表面;该冷却通道有一入口区段及一出口区段,其中该入口区段之质量与该出口区段之质量相互平衡。17.如申请专利范围第16项之晶圆垫座组件,其中该轴承面另包含一返回通道及一供给通道,其中该返回通道流体连通于一返回管线与该冷却通道之出口;且该供给通道流体连通于该供给管线与该冷却通道之入口。18.如申请专利范围第16项之晶圆垫座组件,其中该轴承面能密封该返回通道与该供给通道。图式简单说明:图1为离子布植系统之平面图;图2为本发明之晶圆支座组件及冷却系统之侧视图;图2A为根据本发明凸轮外罩组件前视图,显示冷却剂之通过路径;图3为图2所示晶圆支座组件之俯视图;图4为图2所示本发明之晶圆支座组件及冷却系统之前视图;图5为图4所示晶圆支座组件之冷却通道之俯视图;图6为本发明之晶圆支座组件及冷却系统处于倾斜位置之侧视图;图7为数个晶圆支座组件装设在批次式离子布植机之圆盘上之侧面透视图;及图8为单一晶圆支座组件装设在序列式离子布植机之处理室内的侧面透视图。 |
