| 主权项 |
1.一种化学机械研磨垫调整器的活动轴,具有一基 座,该基座上延伸出一中空之柱状体,该柱状体的 上方设有一气孔其侧面上具一导轨,该导轨上具一 突出的导栓;其特征在于前述的基座、柱状体、导 轨、及导栓为一体铸造成形的单一元件。2.如申 请专利范围第1项所述之化学机械研磨垫调整器的 活动轴,其中所述之基座上具六个螺丝孔。3.如申 请专利范围第2项所述之化学机械研磨垫调整器的 活动轴,其中所述之螺丝孔包含4号螺丝孔。4.如申 请专利范围第1项所述之化学机械研磨垫调整器的 活动轴,其中所述之导轨包含一位于其上之气孔, 以成为真空系统改变压力状态之气流路径。5.如 申请专利范围第1项所述之化学机械研磨垫调整器 的活动轴,其中所述之导栓长度范围为6-12mm。6.如 申请专利范围第1项所述之化学机械研磨垫调整器 的活动轴,其中所述之基座、柱状体、导轨、及导 栓之表面处理包含镀上一层铬金属。7.一种化学 机械研磨垫调整器的活动轴之加工方法,系包括下 列步骤: 以模具铸造形成一包含基座、柱状体、导轨、及 导栓之活动轴工件; 将导轨过长的部份车削去除,并修整柱状体上之切 削表面以与原柱体曲面吻合; 将过长的导栓两端切削去除,并平整切削后之导轨 表面使其平坦化; 将柱状体钻孔以制成柱体中央之中空气孔; 在柱体侧面之导块上于导栓的上方位置钻孔形成 一侧气孔; 在基座之外环圆上钻孔形成六个等间距的小孔; 在每两小孔间的中央位置以螺丝攻分别形成一螺 丝孔及其内螺纹,共产生六个等间距的螺丝孔; 在整个元件表面镀上一层金属。8.如申请专利范 围第7项所述之加工方法,其中所述之螺丝孔包含4 号螺丝孔。9.如申请专利范围第7项所述之加工方 法,其中所述之金属包括铬金属。10.一种化学机械 研磨垫调整器的活动轴之加工方法,系包括下列步 骤: 以车床在一圆柱型金属材料上形成一包含基座及 一圆柱体之活动轴工件; 以拉床于活动轴工件之圆柱体上形成柱状体、导 轨、及导栓; 将导轨过长的部份车削去除,并修整柱状体上之切 削表面以与原柱体曲面吻合; 将过长的导栓两端切削去除,并平整切削后之导轨 表面使其平坦化; 将柱状体钻孔以制成柱体中央之中空气孔; 在柱体侧面之导块上于导栓的上方位置钻孔形成 一侧气孔; 在基座之外环圆上钻孔形成六个等间距的小孔; 在每两小孔间的中央位置以螺丝攻分别形成一螺 丝孔及其内螺纹,共产生六个等间距的螺丝孔; 在整个元件表面镀上一层金属。11.如申请专利范 围第10项所述之加工方法,其中所述之圆柱体半径 为前述的柱状体之半径加上前述的导轨与前述的 导栓之厚度。12.如申请专利范围第10项所述之加 工方法,其中所述之螺丝孔包含4号螺丝孔。13.如 申请专利范围第10项所述之加工方法,其中所述之 金属包括铬金属。图式简单说明: 图一系为本发明所依据之习知活动轴的组合结构 图。 图二系为本发明所依据之活动轴结构图。 |
