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发明名称 Hochvakuum-Sputter-Vorrichtung und zu behandelndes Substrat
摘要
申请公布号 DE69627249(T2) 申请公布日期 2004.02.19
申请号 DE19966027249T 申请日期 1996.07.12
申请人 ULVAC, INC. 发明人 OBINATA, HISAHARU
分类号 C23C14/34;C23C14/35;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):C23C14/34;C23C14/22 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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