发明名称 |
高反射、吸紫外陶瓷釉料及使用该陶瓷釉料制备陶瓷聚光腔的方法 |
摘要 |
本发明公开一种高反射、吸紫外陶瓷釉料,是在100重量份石英质基础釉料中添加5~20重量份稀土材料,再添加水和甲基纤维素形成釉浆,釉浆施于陶瓷聚光腔坯体表面,低温烘干后于1160-1200℃下烧釉制成陶瓷聚光腔,所述稀土材料为CeO<SUB>2</SUB>、La<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>和Sm<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>中的一种或两种及两种以上的组合。本发明提供的高反射、吸紫外陶瓷釉料可明显的改善普通陶瓷聚光腔存在的缺点,具有耐强激光辐照、高绝缘、耐腐蚀、易清洗,吸紫外的特点。 |
申请公布号 |
CN1475464A |
申请公布日期 |
2004.02.18 |
申请号 |
CN03146079.8 |
申请日期 |
2003.07.18 |
申请人 |
中国建筑材料科学研究院 |
发明人 |
彭建中;郑元善;张洪波 |
分类号 |
C04B41/86;H01S3/08 |
主分类号 |
C04B41/86 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
鲁兵 |
主权项 |
1.一种高反射、吸紫外陶瓷釉料,其特征在于,在石英质基础釉料中添加稀土材料,所述稀土材料为CeO2、La2O3和Sm2O3中的一种或两种及两种以上的组合。 |
地址 |
100024北京市朝阳区管庄东里1号 |