发明名称 |
Resist and etching by-product removing composition and resist removing method using the same |
摘要 |
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申请公布号 |
GB2381532(B) |
申请公布日期 |
2004.02.18 |
申请号 |
GB20020018357 |
申请日期 |
2002.08.07 |
申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
DONG-JIN * PARK;KYUNG-DAE * KIM;SANG-MUN * CHON;JIN-HO * HWANG;IL-HYUN * SOHN;SANG-OH * PARK;PIL-KWON * JUN |
分类号 |
G03F7/32;C11D1/52;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D7/60;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/42 |
主分类号 |
G03F7/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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