| 发明名称 | 层间绝缘膜及其形成方法以及聚合物组合物 | ||
| 摘要 | 提供一种介电常数和吸湿性低、机械强度优异的层间绝缘膜。本发明的层间绝缘膜是由具有取代乙炔基且可在三维方向上聚合的第1单体，例如具有取代乙炔基的金刚烷衍生物，与具有取代环戊烯酮基且可在二维方向上聚合的第2单体，例如具有取代环戊烯酮基的芳香族衍生物三维聚合得到的聚合物构成的。 | ||
| 申请公布号 | CN1476087A | 申请公布日期 | 2004.02.18 |
| 申请号 | CN03148937.0 | 申请日期 | 2003.07.01 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 青井信雄 |
| 分类号 | H01L23/532;H01L21/312 | 主分类号 | H01L23/532 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种层间绝缘膜，其特征在于，由具有取代乙炔基且可在三维方向上聚合的第1单体与具有取代环戊烯酮基且可在二维方向上聚合的第2单体三维聚合得到的聚合物构成。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||