| 摘要 |
在本发明中，载电射束曝光装置系包含：载电射束射出器，其系用于产生载电射束并照射于基板上者；照明光学系，其系用于调整上述载电射束之射束径者；单元光圈，其系具有单元图案者，而该单元图案之形状系与所希望之描绘图案对应者；第一偏向器，其系用于把上述载电射束导回其光轴上者，而该载电射束系因第一电场而偏向，入射到上述单元光圈之所希望之单元图案，而通过该单元图案者；缩小投影光学系，其系以第二电场使已通过上述单元光圈之上述载电射束缩小，并在上述基板上结像者；及第二偏向器，其系以第三电场使已通过上述单元光圈之上述载电射束偏向，并调整其在上述基板上之照射位置者，其中上述载电射束射出器系以低于可产生近接效应的加速电压来使上述载电射束射出者；而该近接效应系指，后方散射电子对近接于上述载电射束照射位置的描绘图案之曝光量所造成的影响；而该后方散射电子系在接受上述载电射束之照射的上述基板内所产生者；上述缩小投影光学系系包含N层(N为2以上之自然数)之M极子透镜(M为4以上之偶数)；及像差补正器，而该像差补正器系用于把开口像差及色像差中之至少一种，分别在与上述光轴直交(M／2)的方向上进行相互独立补正者；而该开口像差及色像差系当上述照明光学系扩大上述射束径的情况下所产生者；而扩大前述射束径的目的在于减少因空间电荷效应所造成的失焦；而该空间电荷效应系在上述载电射束于前述基板上结像的位置所产生者。 |
