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发明名称
用于电浆反应室而具有减少金属杂质浓度之矽部件
摘要
本发明揭示一种半导体处理装置之矽部件,其包含在矽中具有高迁移性之低含量金属杂质。该等矽部件可包括环圈、电极及电极组件,其能够减少电浆环境中所处理晶圆之金属杂质。
申请公布号
TW200402789
申请公布日期
2004.02.16
申请号
TW092108382
申请日期
2003.04.11
申请人
蓝姆研究公司
发明人
达克幸 冷;杰罗马S 胡巴塞克;尼可拉斯E 韦布
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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