发明名称 用于电浆反应室而具有减少金属杂质浓度之矽部件
摘要 本发明揭示一种半导体处理装置之矽部件,其包含在矽中具有高迁移性之低含量金属杂质。该等矽部件可包括环圈、电极及电极组件,其能够减少电浆环境中所处理晶圆之金属杂质。
申请公布号 TW200402789 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092108382 申请日期 2003.04.11
申请人 蓝姆研究公司 发明人 达克幸 冷;杰罗马S 胡巴塞克;尼可拉斯E 韦布
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国