光阻材料及微细加工方法

摘要

本发明系关于不必使用电子束及离子束等昂贵之照射装置，即可实现高分解能之微细加工之光阻材料及微细加工方法。即，可利用既有之曝光装置，实现更进一步之极微细加工。选择地将含W及Mo等过渡金属之不完全氧化物之光阻层曝光、显影而图案化成为特定之形状。在此所称之过渡金属之不完全氧化物，系指由对应于过渡金属所能采取之价数之化学计量组成，向含氧量较少之方向偏移之化合物而言，即系指：过渡金属之不完全氧化物之含氧量少于对应于上述过渡金属所能采取之价数之化学计量组成之含氧量之化合物而言。