发明名称 照明方法,曝光方法及其装置
摘要 本发明是具备:一维或二维地排列分离的复数光源的光源列与聚光从该光源列的各光源所射出的聚光光学系及空间地分解在该聚光光学系所聚光的光线并生成多数拟似二次光源的多数棒透镜的排列所构成;具有垂直于各棒透镜的光轴的断面形状的纵横比r1与上述被照明领域21的纵横比r0的比,r1/r0为0.8以上1.2以下的光积分器及重叠来自藉由该光积分器所生成的多数拟似二次光源的光线而照明于具有须曝光的图案的被照明领域的聚光透镜的照明光学系,及将透过或反射在该照明光学系统所照明的须曝光的图案的光线投影曝光于被曝光物上的被曝光领域的投影光学系,为其特征的曝光装置及其方法。
申请公布号 TW200402608 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092117161 申请日期 2003.06.24
申请人 日立比亚机械股份有限公司 发明人 押田良忠;丸山重信;小林和夫;内藤芳达;大义久
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本