| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING INSULATING LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003252352(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.16 |
| 申请号 |
AU20030252352 |
申请日期 |
2003.07.30 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TOSHIAKI HONGOH;SATOHIKO HOSHINO |
| 分类号 |
H01L21/3105;H01L21/312;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/312 |
主分类号 |
H01L21/3105 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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