发明名称 Reduced volume, high conductance process chamber
摘要
申请公布号 AU2003253689(A8) 申请公布日期 2004.02.16
申请号 AU20030253689 申请日期 2003.07.30
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 STEVEN T. FINK
分类号 C23C14/56;C23C16/44;H01J37/32;H01L21/00;(IPC1-7):C23C16/509;H01L21/306;C23F1/00;C23C16/50 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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