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发明名称
Reduced volume, high conductance process chamber
摘要
申请公布号
AU2003253689(A8)
申请公布日期
2004.02.16
申请号
AU20030253689
申请日期
2003.07.30
申请人
TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
STEVEN T. FINK
分类号
C23C14/56;C23C16/44;H01J37/32;H01L21/00;(IPC1-7):C23C16/509;H01L21/306;C23F1/00;C23C16/50
主分类号
C23C14/56
代理机构
代理人
主权项
地址
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