| 主权项 |
1.一种字型的描述法,用一几何面积大小的变化来呈现一字体的至少一笔划之粗细变化,该方法包含:依该至少一笔划的形状特性,设定该字体的至少一条移动路径;根据该至少一笔划首尾的粗细特性,设定该至少一移动路径的复数个控制点之几何面积大小;以及使该几何面积的中心沿着该至少一移动路径前进,而该几何面积前进的过程中该几何面积变化面积大小以形成该字体。2.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之几何面积为一圆形。3.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之几何面积系由一椭圆形、长方形、正方形、以及正多边形所组成之族群中选出。4.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之移动路径的参数资料包含了该复数个控制点的座标。5.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之几何面积大小之变化系以一阶或以上的方程式来描述。6.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之字型描述法所描述的字体系选自于由中文字体、日文字体、韩文字体所组成之族群。7.如申请专利第1项之字型的描述法,其中上述之字体的至少一条移动路径系以一阶或以上的曲线方程式来描述。8.如申请专利第1项之字型的描述法,其中调整该字体之大小的方法,包含:将该字体的该至少一笔划的该至少一移动路径上之该复数个控制点座标位置依一等比例调整大小;将该移动路径的该复数个控制点之该几何面积大小按与该至少一移动路径相同之该等比例调整;以及使调整过之几何面积的中心沿着调整过之该至少一移动路径前进,而调整过之该几何面积前进的过程中调整过之该几何面积变化面积大小以形成该字体。9.如申请专利第1项之字型的描述法,其中调整该字体之大小的方法,包含:将该字体的该至少一笔划的该至少一移动路径上之该复数个控制点座标位置依一等比例调整大小;将该复数个控制点之该几何面积大小维持不变;以及使该几何面积的中心沿着调整过之该移动路径前进,而该几何面积前进的过程中该几何面积变化面积大小以形成该字体。10.一种组合造字的方法,该方法包含:一字集的至少一个字体所共有的至少一个基本笔划所组成的一资料库;以及根据该至少一基本笔划的在该至少一字体内之该至少一笔划间的相关位置以及该至少一基本笔划大小之资料,组合成该字体;其中该资料库中,该字集的该至少一个字体所共有的该至少一基本笔划的描述方法包含:依该字集的该至少一个字体所共有的该至少一基本笔划的特性,设定至少一条移动路径;根据该至少一基本笔划的粗细特性,设定该移动路径的复数个控制点之该几何面积大小;以及使该几何面积的中心沿着该至少一移动路径前进,而该几何面积前进的过程中该几何面积变化面积大小以形成该字体。11.一种描述字型的装置,该装置包含:一用以决定一字体移动路径之装置,系依该字体的至少一笔划的形状特性,设定该字体的至少一条移动路径;一用以决定该的笔划首尾粗细之装置,系依该至少一笔划首尾的粗细特性,设定该至少一移动路径的复数个控制点之该几何面积大小;以及一用以产生笔划之装置,系使该几何面积的中心沿着该至少一移动路径前进,而该几何面积前进的过程中该几何面积变化面积大小以形成该字体。图式简单说明:第一A图系点阵字型之图示说明;第一B图系外框字型之图示说明;第一C图系向量字型之图示说明;第二A图系二次方曲线所描述的曲线之图示说明;第二B图系三次方贝氏曲线所描述的曲线之图示说明;第三图系圆形沿移动路及移动之示意图;第四A图系三次方贝氏曲线所描述的曲线之图示说明;第四B图系依圆形曲率半径参数缩描述的笔划之图示说明;第四C图系圆形经过的笔划图形之图示说明;第四D图系笔划有较复杂的变化之图示说明;第五A到D图系依本发明所完成之字体;第六A到H图系毛笔字型、外框字型与向量字型比较之示意图; |
