发明名称 灯源模组
摘要 一种灯源模组,适用于一扫描器上,主要系由一灯源以及一菲涅尔透镜所组成。其利用菲涅尔透镜之集光作用以增强灯源之光线亮度,并且藉由控制菲涅尔透镜之出光面的纹路分布以及密度,使得投射在扫描器之扫描平台的光线亮度获得增强以及补偿的效果,进而补偿扫描器之影像撷取元件中影像周边光量衰减效应的影响。
申请公布号 TW576098 申请公布日期 2004.02.11
申请号 TW091121210 申请日期 2002.09.17
申请人 力捷电脑股份有限公司 发明人 连金钟
分类号 H04N1/04 主分类号 H04N1/04
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种灯源模组,适用于一扫描器上,至少包括:一灯源,用以投射一光线;以及一菲涅尔透镜,该菲涅尔透镜具有一入光面以及一出光面,该入光面用以接收该光线,而该出光面具有一中央区域以及一补强区域,其中该中央区域系为一平坦之表面,而该补强区域系位于该中央区域的两侧,且该补强区域具有复数个齿状结构。2.如申请专利范围第1项所述之灯源模组,其中该灯源系为一灯管。3.如申请专利范围第1项所述之灯源模组,更包括一反射集光装置,其中该反射集光装置系配置于该灯源之周围。4.如申请专利范围第1项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向平行。5.如申请专利范围第4项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。6.如申请专利范围第5项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。7.如申请专利范围第1项所述之灯源模组,其中该些齿状结构系构成复数个齿状结构组,且该些齿状结构组中该些齿状结构的密度系由该补强区域的内侧向外侧递增。8.如申请专利范围第7项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向平行。9.如申请专利范围第8项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。10.如申请专利范围第9项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。11.如申请专利范围第1项所述之灯源模组,其中该些齿状结构的密度系由该补强区域的内侧向外侧递增。12.如申请专利范围第11项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向相近。13.如申请专利范围第12项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。14.如申请专利范围第13项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。15.一种灯源模组,适用于一扫描器上,至少包括:一灯源,用以投射一光线;以及一菲涅尔透镜,该菲涅尔透镜具有一入光面以及一出光面,该入光面用以接收该光线,而该出光面具有复数个齿状结构。16.如申请专利范围第15项所述之灯源模组,其中该灯源系为一灯管。17.如申请专利范围第15项所述之灯源模组,更包括一反射集光装置,其中该反射集光装置系配置于该灯源之周围。18.如申请专利范围第15项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向平行。19.如申请专利范围第18项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。20.如申请专利范围第19项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。21.如申请专利范围第15项所述之灯源模组,其中该些齿状结构系构成复数个齿状结构组,且该些齿状结构组中该些齿状结构的密度系由该出光面的中央向两侧递增。22.如申请专利范围第21项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向平行。23.如申请专利范围第22项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。24.如申请专利范围第23项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。25.如申请专利范围第15项所述之灯源模组,其中该些齿状结构的密度系由该出光面的中央向两侧递增。26.如申请专利范围第25项所述之灯源模组,其中该些齿状结构之延伸方向与该菲涅尔透镜之长边方向相近。27.如申请专利范围第26项所述之灯源模组,其中每一该些齿状结构之延伸方向上具有一折射面。28.如申请专利范围第27项所述之灯源模组,其中该折射面系为一曲面以及一平面其中之一。图式简单说明:第1图绘示习知的扫描器之光路径示意图;第2图绘示具有较短光行程之光路径的示意图;第3图绘示习知的灯源亮度补偿装置的示意图;第4A~4B图绘示菲涅尔透镜之结构示意图;第4C图绘示菲涅尔透镜之出光面的正视图;第5A~5C图绘示本发明第一实施例之一种灯源增强与补偿装置的示意图;第6A图绘示本发明第一实施例中菲涅尔透镜之出光面的正视图;第6B图绘示依照第6A图所得之扫描平台位置与照明辉度之分布曲线关系图;第6C图绘示依照第6A图所得之影像撷取元件的位置与响应强度之曲线关系图;第7A图绘示本发明第二实施例中菲涅尔透镜之出光面的正视图;第7B图绘示依照第7A图所得之扫描平台位置与照明辉度之分布曲线关系图;第7C图绘示依照第7A图所得之影像撷取元件的位置与响应强度之曲线关系图;第7D图绘示本发明第二实施例中另一种菲涅尔透镜之出光面的正视图;第8A图绘示本发明第三实施例中菲涅尔透镜之出光面的正视图;第8B图绘示本发明第三实施例中另一种菲涅尔透镜之出光面的正视图;第8C图绘示依照第8B图所得之扫描平台的位置与照明辉度之分布曲线关系图;以及第8D图绘示依照第8B图所得之影像撷取元件的位置与响应强度之曲线关系图。
地址 新竹市新竹科学工业园区研发二路一之一号
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