| 主权项 |
1.一种实行光引发反应之方法,其包括将选自可聚合和/或可交联组成物之反应性基质和一变色物质施用于担体上,将随着反应物质施用之含有乙烯基取代的二烷环并且当被活化时会产生酮之潜在光引发剂予以活化,并且接着使其中带有所得到的酮之光引发剂的反应基质曝露于光反应的条件下,其中,光化辐射将使该基质分别进行聚合和/或交联或者是变色反应,该基质在此方法的至少一阶段中被曝光于光化辐射的环境中,因此它的组成将被就地改质,使得所得之聚合和/或交联组成物或变色物质将与其在担体上物质改质部分的分布位置相对应。2.如申请专利范围第1项之方法,其中潜在光引发剂系为二恶茂烷合成二苯酮、2,2-二甲基-2-苯基苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、1-羟基-环己基-苯酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗代丙-1-酮、2-基-2-N,N-二甲胺基-1-(4-吗代苯基)-1-丁酮、异丙基硫杂酮、樟脑、[4-(4-甲基苯基硫代)苯基]苯酮、4-苯基二苯甲酮、2-乙基或二碘丁氧基萤光酮之被保护二恶茂烷先质。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中潜在光引发剂的使用量为基质重量的3到10%之间。4.如申请专利范围第1或2项之方法,其中聚合和/或交联之组成物系在光引发剂于组成物未进行聚合反应和/或交联反应的状况下进行活化之后,使用光罩来进行基质组成物的成像曝光,而达成其分布。5.如申请专利范围第1项之方法,其中潜在光引发剂为一被保护的光引发剂,并且其保护作用在初步光反应状况下所发生的光反应所去除。6.如申请专利范围第5项之方法,其中初步光反应条件包括存在一阳离子光引发剂,其可产生一用于打开潜在光引发剂之保护的酸触媒。7.如申请专利范围第6项之方法,其中基本条件组包括盐或盐或以及盐类型态的有机金属化合物或是-磺醯氧酮的存在。8.如申请专利范围第7项之方法,其中阳离子光引发剂系选自:双[4-(二苯基磺基)-苯基]硫化物、双-六氟磷酸盐或双-六氟锑酸盐选择性的与一种单-或多[4-(苯基硫二苯基)六氟磷酸盐或六氟锑酸盐之组合双[4-(二(4-(2-羟乙基)苯基)磺)苯基]硫化物双-六氟磷酸盐双[4-(二(4-(2-羟乙基)苯基)磺)苯基]硫化物双-六氟锑酸盐(5-2,4-(茂基)[(1,2,3,4,5,6-)-(甲基乙基)-苯]-六氟磷酸铁(Ⅱ)4-异丙基-4-甲基二苯基或二苯基六氟磷酸盐或是四-(五氟苯基)硼酸盐,以及2-羟基-2-苯基-3-甲苯磺氧基丙醯苯酮。9.如申请专利范围第6到8项中任一项之方法,其中阳离子光引发剂的使用量为基质重量的0.25至3%之间。10.如申请专利范围第6到8项中任一项之方法,其中个别的光反应状况包括施用两种明显不同波长的光化辐射。11.如申请专利范围第10项之方法,其中低能量来源的光化辐射系用来做为达成成像曝光之初步光反应条件的一部分,并且大量施用的高剂量光化辐射系包括于后续的光反应状况中。12.如申请专利范围第11项之方法,其中雷射直接成像被用来施用低能量来源的光化辐射,以使得反应基质的既定分布能在后续的光反应状况中被聚合和/或交联。13.如申请专利范围第10项之方法,其中光化辐射为UV辐射。14.如申请专利范围第1或2项之方法,其中潜在光引发剂为一被保护的光引发剂,其保护作用在初步状况下被热去除。15.如申请专利范围第14项之方法,其中初步状况包括一化合物的出现,其为热可分解而产生一用于打开潜在光引发剂之保护的酸触媒。16.如申请专利范围第15项之方法,其中该化合物为一种被保护的对甲苯磺酸。17.如申请专利范围第1项之方法,其中基质为丙烯酸基质。图式简单说明:第1图系为实施本发明实行光引发反应之方法的具体例中之一流程图。第2图系为实施本发明实行光引发反应之方法的具体例中之另一流程图。第3图系为实施本发明实行光引发反应之方法的具体例中之又一流程图。第4图系为实施本发明实行光引发反应之方法的具体例中之再一流程图。 |
