| 主权项 |
1.一种光学拾波器之物镜驱动装置,其包含:一聚焦线圈;一追踪线圈;以及一磁路,其中,在聚焦线圈,追踪线圈及磁路之线圈厚度方向之中心予以设置在相同平面。2.如申请专利范围第1项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈及追踪线圈在一线圈底座凸起,并卷绕于一聚焦线圈卷轴及一追踪线圈卷轴。3.如申请专利范围第1项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,磁路包括一在二极在聚焦方向极化之磁铁,并且聚焦线圈予以设置在磁路之磁隙。4.如申请专利范围第3项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈及追踪线圈在一线圈底座凸起,并卷绕于一聚焦线圈卷轴及一追踪线圈卷轴,其中心在厚度方向匹配。5.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,线圈底座系以一印刷电路板形成。6.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,线圈底座系以一种耐热树脂板并在顶部形成,其中,在线圈底座之两端之底部提供凸起之端子,供卷绕聚焦线圈及追踪线圈之引线之末端。7.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈卷轴予以设置在线圈底座之中心,其中,四追踪线圈卷轴予以垂直及水平方向对称设置绕聚焦线圈卷轴及在其外面。8.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈卷轴予以设置在线圈底座之中心,其中,二追踪线圈卷轴予以垂直及水平方向对称设置绕聚焦线圈卷轴及在其外面。9.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈卷轴予以设置在线圈底座之中心,其中,四追踪线圈卷轴予以垂直及水平方向对称设置在聚焦线圈卷轴之中空区段。10.如申请专利范围第4项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,聚焦线圈卷轴予以设置在线圈底座之中心,其中,二追踪线圈卷轴予以水平方向对称设置在聚焦线圈卷轴之中空区段。11.一种光学拾波器之物镜驱动装置,其包含:一透镜座,以一种含轻金属诸如镁合金,或具有高挠性弹性模数之碳纤维之树脂作成;以及一线圈单元,附着至在追踪方向形成在透镜座之二凹口。12.如申请专利范围第11项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,一绝缘保护薄膜予以形成在凹口之表面。13.如申请专利范围第11项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,在线圈单元之区段形成一绝缘保护薄膜予以附着至凹口。14.一种光学拾波器之物镜驱动装置,其包含:一透镜座,以一种含轻金属诸如镁合金,或具有高挠性弹性模数之碳纤维之树脂作成;以及一线圈单元经由插入塑模附着至透镜座。15.如申请专利范围第14项之光学拾波器之物镜驱动装置,其中,一绝缘保护薄膜予以形成在将行经由插入塑模附着至透镜座之线圈单元之区段。图式简单说明:图1为本发明第一实施例之分解透视图;图2为一根据本发明第一实施例之磁路之侧视图;图3为配置平面图,示根据本发明之第一实施例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图4A为配置平面图,示根据本发明之第一实施例,当在正(+)追踪方向(在图中向右)移动时,在自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间之关系;图4B为配置平面图,示当在正(+)追踪方向(在图中向右)移动时,在自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间之关系;图5为配置平面图,示根据本发明之第一实施例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图6为根据本发明之第一实施例,在一在既定追踪线圈位置之聚焦位置与一物镜之倾斜间之关系之解释图;图7为配置平面图,示根据本发明第一实施例之另一实例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图8为本发明之第二实施例之分解透视图;图9为分解透视图,示本发明之第二实施例之另一实例;图10为分解透视图,示根据本发明之第二实施例,如何使一线圈底座及一透镜座固定;图11为一根据本发明之第二实施例之磁路之侧视图;图12为配置平面图,示根据本发明之第二实施例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图13为配置平面图,示根据本发明第二实施例之另一实例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图14为配置平面图,示根据本发明第二实施例之另一实例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图15为配置平面图,示根据本发明第二实施例之另一实例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图16为本发明之第三实施例之分解透视图;图17为一根据本发明之第三实施例之磁路之侧视图;图18为配置平面图,示根据本发明之第三实施例,在聚焦方向自身重量位置之磁铁、聚焦线圈与追踪线圈之间的关系;图19为透视图,示相关技艺之一实例之一种构形;图20A为根据相关技艺第二实施例之磁路之平面图;图20B示贯穿聚焦驱动线圈之磁通量密度之分布;图21为相关技艺之第三实施例之透视图;图22为相关技艺之另一第三实施例之透视图;以及图23示相关技艺之第四实施例。 |
