主权项 |
1.一种奈米级胶体二氧化矽变形微粒之制作方法, 包含: (A)提供一奈米级球型胶体二氧化矽溶液,其平均粒 径小于90nm; (B)于该二氧化矽溶液中,添加0.1%至5%重量百分比之 凝集剂与一活性矽酸溶液,并加热反应,其中该凝 集剂系选自于由碳酸盐、硝酸盐、硫酸盐、硼酸 盐、磷酸盐、碳酸、硝酸、硫酸、硼酸、磷酸组 成之群组;以及 (C)于加热状态下持续添加浓度小于15%重量百分比 之活性矽酸溶液,至反应中SiO2浓度为6至50%重量百 分比。2.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其 中该活性矽酸溶液系以矽酸盐类溶液经阳离子交 换树脂处理而得。3.如申请专利范围第2项所述之 制作方法,其中该矽酸盐类溶液为矽酸钠溶液。4. 如申请专利范围第1项所述之制作方法,其更包含 在添加凝集剂之前将该胶体二氧化矽溶液之pH値 调整为7至11。5.如申请专利范围第1项所述之制作 方法,其中该反应所需之加热温度范围为60至100℃ 。6.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其中所 使用之该奈米级球型胶体二氧化矽之平均粒径大 小为10至90nm。7.如申请专利范围第1项所述之制作 方法,其中该凝集剂为弱酸性或弱硷性盐类,或形 成该盐类之酸,或该盐类与该酸之混合物。8.如申 请专利范围第1项所述之制作方法,其中该凝集剂 之浓度为0.1%至3%重量百分比。9.如申请专利范围 第1项所述之制作方法,其中该步骤(B)之凝集剂添 加时机为活性矽酸溶液添加前、添加中或添加后 。10.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其中 该步骤(B)与(C)更包含在反应过程中持续搅拌。图 式简单说明: 第1图系本发明所制造之奈米级胶体二氧化矽变形 微粒之电子显微照相图。 |