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1.一种用于SiO2层之化学-机械磨光的酸性磨光浆料 ,其含有: 0.1-5重量%的胶态二氧化矽研磨剂,和 0.5-10重量%的氟化盐。2.根据申请专利范围第1项之 磨光浆料,其特征在于该胶态二氧化矽研磨剂的存 在量为0.1-3.5重量%,而且氟化盐的存在量为1-6重量% 。3.根据申请专利范围第1项之磨光浆料,其特征在 于该氟化盐是铵盐。4.根据申请专利范围第3项之 磨光浆料,其特征在于该氟化盐是氟化铵或氟化氢 铵。5.根据申请专利范围第4项之磨光浆料,其特征 在于该氟化盐是氟化氢铵。6.根据申请专利范围 第1项之磨光浆料,其特征在于其pH値为2-6。7.根据 申请专利范围第1项之磨光浆料,其特征在于该胶 态二氧化矽的平均粒径为10nm-1m。8.根据申请专 利范围第7项之磨光浆料,其特征在于该胶态二氧 化矽的平均粒径为20-100nm。9.根据申请专利范围第 1项之磨光浆料,其系用在磨光含二氧化矽和氮化 矽的复合材料。 |
