| 主权项 |
1.一种线性化学机械研磨机,包括: 一研磨垫; 一承载装置,承载一晶圆,并使该晶圆与该研磨垫 接触; 一供料装置,注入一研浆; 一动力装置,包括一第一及第二滚轮,该研磨垫系 环绕于该等滚轮上,并配合该注入之研浆使该研磨 垫与该晶圆产生相对运动以进行研磨而在该研磨 垫上产生一第一及第二杂质粒子; 一调节装置,将该研磨垫上之该第一杂质粒子去除 ;以及 一刷洗装置,包括: 一刷头,与该研磨垫接触; 一喷射器,喷射一清洁液至该刷头及该研磨垫表面 ;以及 一马达,带动该刷头以与该研磨垫相反之运动方向 运动,并配合该清洁液将该研磨垫上之该第二杂质 粒子去除。2.如申请专利范围第1项所述之线性化 学机械研磨机,其中该动力装置更包括: 一马达,带动该第一及第二滚轮而使该研磨垫与该 晶圆间产生相对运动。3.如申请专利范围第1项所 述之线性化学机械研磨机,其中更包括一气囊,施 加压力于该研磨垫。4.如申请专利范围第1项所述 之线性化学机械研磨机,其中该研磨垫具有一沟槽 纹路,该第二杂质粒子系位于该沟槽纹路中。5.如 申请专利范围第1项所述之线性化学机械研磨机, 其中该第二杂质粒子系一铜粒子。6.如申请专利 范围第1项所述之线性化学机械研磨机,其中该第 二杂质粒子系一钛粒子。图式简单说明: 第1A图显示一传统线性化学机械研磨机; 第1B图显示一研磨垫之上视图; 第2图显示本创作之线性化学机械研磨机。 |
